㈠ 荷蘭阿斯麥爾光刻機全球獨一無二，為什麼沒有人告他壟斷
壟斷並不違法，違法的是壟斷行為。比如我設計並銷售一種能削水果的手機，全世界只有我這么做，我即是壟斷，但是我沒有利用我的支配地位與別商協商市場價格，我沒有限制和強迫生產同類產品，我就是沒有壟斷行為，也就不觸犯反壟斷法。
反壟斷法了解一下。為什麼谷歌幾次被歐盟罰款？為什麼微軟不能在Windows里帶媒體播放器？誰定規則誰說了算，定規則的就不會成被告。那為啥法院也有成被告的？
壟斷這事我是這么看，假如這個東西A能生產並且技術很先進，B(或者還有C等等)也能生產但是不如A市場賣得好，這時B可以告A壟斷。如果這件產品只有A能生產，技術也是人家自己的怎麼告它壟斷？
㈡ 阿斯麥（上海）光刻設備科技有限公司北京分公司怎麼樣
簡介：阿斯麥（上海）光刻設備科技有限公司北京分公司成立於2012年03月19日，主要經營范圍為光刻設備系統的研發、技術服務及維護服務等。
法定代表人：范祖恩
成立時間：2012-03-19
工商注冊號：110000450200851
企業類型：分公司
公司地址：北京市北京經濟技術開發區榮華中路19號院1號樓B座10層1001室
㈢ 荷蘭光刻巨頭ASML倒向中國，為何光刻機很難被製造
近日荷蘭光刻機巨頭ASML公司發布了第一季的財報，根據這份財報顯示第一季度中國在ASML公司訂購了十一台光刻機，這不由得引起了外屆的關注，因為做為重要的晶元生產設備在技術上是受到了歐美國家的壟斷的，而此次ASML公司接受中國公司的訂購是不是表明了ASML徹底倒向了中國而無視了美國在全球范圍內禁止對中國出口高科技裝備的禁令呢，實際上這是不可能，事實是作為一家商業公司，是以盈利為目的的，所以完全沒有理由放棄中國這么大的市場，ASML的行為完全是一種商業模式，和政治是扯不上邊的，並且ASML是由多個國家控股的，其中就有美國財團的身影，所以繞過美國而接納中國訂單基本是不現實的。
ASML公司在光刻機領域內的投資是十分大的，成功的研發出光刻機並持續不斷的升級是需要大量的資金支持，ASML公司在光刻機領域內的投入已經超過了4000億以上，這是一個相當大的數字，所以目前光刻機的從頭研發及製造出成品是非常困難的。
㈣ ASML是唯一能製造極紫外光刻機的廠商，高端晶元製造到底有多難
近幾年來，中國科技行業遭到國外的嚴重打壓，尤其是電子晶元成為我國半導體領域最突出的短板，生產晶元最重要的設備是光刻機，世界上先進的光刻機主要由荷蘭一家名為阿斯麥（ASML）的公司製造，市場佔有率超過80%，而其中最先進的極紫外光刻機（EUV光刻），全世界只有ASML一家公司能製造。
ASML
ASML雖然是一家荷蘭的公司，但是出口光刻機受到西方國家的嚴格控制，ASML的大股東包括美國因特爾、台灣積體電路製造（台積電）、韓國的三星、荷蘭皇家飛利浦電子公司等等，其中因特爾佔有股份大約為15%，台積電大約5%。
在這樣的情況下，中國晶元產業的發展舉步維艱，光刻機包含的關鍵技術太多，一時半會我們是繞不過去的；其實中國並不缺乏人才，只不過人才要用到什麼領域，需要政策引導才行，想到中國天眼FAST在2018年的一次網上招聘，年薪10萬難覓駐地科研人才，讓人感慨不已。
㈤ 蘋果有阿斯麥的股份嗎
你好是有的，這一個也是有股份的，
會有很多的，因為實力比較的強大。
㈥ 中國或者中國公司為什麼不控股ASML
上市公司為了預防惡意收購，都有相應的舉措，不是你想的那麼容易。
㈦ asml是哪個國家的
asml是荷蘭的。
荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconctor Material Lithography，目前該全稱已經不作為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥爾（中國大陸）、艾司摩爾（中國台灣）。
這是一家總部設在荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。
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公司簡介
總部位於荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven），歐洲人均科研經費排名第二的高科技公司。2010年，其全球凈銷售收入超過45億歐元。2011年，賣出222套機器 ，全球凈銷售收入56.51億歐元 ，凈利潤14.67億歐元。
ASML在歐洲、亞洲及美國的50多個地區擁有9245名員工 ，其中固定員工7184 （歐洲4202 ，亞洲1538 ， 美國1444 ），男女比例為9：1 。截止2011年，全球市場佔有率75%。
中國地區總部地址：上海市張江鎮金科路2889號長泰廣場A座9樓
㈧ ASML是什麼意思
1、荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconctor Material Lithography，目前該全稱已經不作為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國台灣）。
2、光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
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光刻機工作原理
在加工晶元的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。
一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的晶元可以繼續塗膠、曝光。越復雜的晶元，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。
㈨ 哪家中國公司牽手荷蘭阿斯麥高科技光刻機公司
哪家公司都沒有