『壹』 光刻機和原子彈，哪個更難搞
綜述：光刻機。
造光刻機的難度確實要比原子彈還要大，並不是原理技術有多麼難，而是我們的工藝水平達不到。一台光刻機幾乎集合了10萬個零部件，要知道我們的一台汽車也不過5000個零部件，而且每個零件都是精密的零器件，比如德國蔡司的鏡頭，幾乎只有它一家能夠生產，純手工打磨。
目前光刻機的精度幾乎接近原子的直徑0.1納米，光刻機每移動1厘米，控制納米精度，相當於上千公里范圍內控制一個銀針，可見難度之大。
光刻機：
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶元的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。
以上內容參考網路-光刻機
『貳』 為什麼光刻機比核彈還難
光刻機並不是難，中國人自己也能搞出來。但是核彈是高機密的，沒有專利。光刻機是普通民間工業，有大量專利。ASML有大量專利，組成專利牆，讓你無法突破。日本企業就是這么敗了。
望採納，謝謝
『叄』 IT產業中比光刻機更貴一些的單體設備有哪些
這個不好說，光刻機也是有便宜有貴的，那種二手的nikon的G線1型機，或者老式的佳能價格一般可能20萬都不到，但是像阿斯邁爾或者nikon的14型連體作業機價格會貴上好幾倍，那些大束流中束流注入機也不便宜，好一些電子顯微鏡都很貴的，飛利浦的XL系列那種大腔體的電子顯微鏡要上百萬，不是一般工藝線上的那種測線寬的設備，而是多用途的那種，一般用於失效性分析跟切片的。光刻在整條工藝線中成本最高並不是因為光刻機，而是光刻膠，那玩意兒成本差不多一滴一塊錢，幾批產品走下來錢就炸舌了，絕對不是像腐蝕幾瓶酸幾瓶氨水，注薄幾塊靶那麼省事的。
『肆』 好消息！中國芯完成「破冰」，這次國產晶元光刻機EDA都來了，你怎麼看
晶元限令執行以後，中國半導體材料深陷了一種臨時的焦慮當中，要是要細心計算下來，中國所存有的薄弱點還確實許多，好像晶元生產製造、光刻機及其工業軟體及其等別的各種各樣領域手機軟體當中，我們是存有著薄弱點的。
中國半導體材料發展趨勢慢的緣故要了解，隨著著全世界智能化的持續加快，晶元所飾演的人物角色也愈來愈關鍵，現如今5G及其工業物聯網促進智能化更新改造的大情況下，晶元好像早已變成基本上全部行業發展的踏腳石。
三大喜訊轉來，中國晶元早已完成了破冰之旅，堅信在下面的發展趨勢當中，在晶元的大量細分化領域當中，大家也一定會邁入更強的提升。
『伍』 EUV光刻機與原子彈，相比之下哪一個更難造
光刻機和原子彈相比到底哪個難，這兩個其實沒有辦法放在一塊去比較，因為兩者不是處於一個時代的東西，要比較兩個事物，它本身一定是有相同的地方，要麼是縱軸上有相似，要麼就是橫軸上有相似，但顯然光刻機和原子彈他們兩個應用的領域和時代完全不同。
一台高精度的光刻機，有10多萬個零件組成，集合了全球幾千家科技公司的智慧結晶，可以說一台高端的光刻機，它製作出來的晶元就相當於是一個模擬的人類大腦，這可以說是人類智慧文明的巔峰，目前來說應該是這樣的，所以光刻機的製造不是那麼簡單的事情，這需要一個長年累月的研究，也需要技術的積累。