❶ 國產晶元概念股龍頭有哪些
一、中科曙光
中科曙光，科技部、信息產業部、中科院大力推動的高新技術企業，專注於伺服器領域的研發、生產和應用，公司的曙光系列產品對於推動國內高性能計算機的發展做出了很大貢獻。
二、富瀚微
主要做視頻監控晶元涉及的，和安防龍頭海康威視關系密切，近幾年在安防IPC晶元市場發展較快，營業收入和凈利潤增幅較大，各大券商維持買入評級。
三、長電科技
國內著名的分位器件製造商，集成電路封裝生產基地，中國電子百強企業之一。長電科技研發IC高端封裝技術，在業內有較強的競爭力和技術領先優勢。
五、科大國創
公司是中國電信、中國移動和中國聯通運營支撐系統的核心供應商，再此基礎上還與三大運營商發展了ICT、物聯網等領域的新業務合作。近幾年在電力、金融、交通等領域業務突破較大。
(1)濺射靶材股票行情擴展閱讀
中興通訊被美國禁止元器件進口再次敲響了警鍾，國內半導體產業對外依存度很高，尤其在高端產品領域，幾乎沒有國產化能力，此次禁運將再次加強國內實現半導體產業自主可控的決心。
晶元承擔著運算和存儲的功能，是電子設備中最重要的部分，由集成電路經過設計、製造、封裝等一系列操作後形成。晶元行業集中度高，海外巨頭公司長期壟斷，國內晶元產業依然薄弱。
西南證券表示，中國晶元市場規模達到千億美元，佔全球晶元市場50%以上，但過分依賴進口也是一大弊端。
❷ 國產晶元龍頭股有哪些
1、兆易創新
兆易創新位列全球Nor flash市場前三位，且隨著日美公司的退出，市場份額不斷提高；存儲價格不斷高漲，公司的盈利能力亮眼。
公司產品線覆蓋刻蝕機、PVD、CVD、氧化爐、清洗機、擴散爐、MFC等七大核心品類，下遊客戶以中芯國際、長江存儲、華力微電子等國內一線晶圓廠為主。
❸ 濺射和濺射靶材的區別和用途
濺射是一個過程名詞，濺射靶材：是指可通過電流束縛磁場方向轟擊其表面才生離子的材料
一般濺射靶材可分為：金屬靶材，非金屬靶材，陶瓷靶等等
❹ 磁控濺射靶材燒了裂一個口
看你裂口是怎樣的了。
我們的有一個靶材就有裂紋，但是拼上去了，拿的時候不會裂開，照樣在用，沒有太大問題。
不過，如果你的靶材是要擊穿了，建議換一個新的。
❺ 關於磁控濺射靶材的問題
回答問題可能不是特別對口，部分題目不是特別詳細，也沒辦法詳細。如果有疑問再追問或者聯系我。
1.膜層厚度測量問題：如果是純凈的氧化鋅，或者說是透明的，就可以用光學方法測量膜層厚度，如果是非透明的，就用台階儀，這量類的測量厚度的光學儀器不少，我不再細說。需要注意的是選擇適當的測量范圍的儀器。
2.一般磁控濺射可以分為直流（二級）濺射、中頻、射頻。直流濺射電源便宜，沉積膜層緻密度較差，一般國內光熱、薄膜電池選擇使用的方法，能量較低，濺射靶材為金屬靶材。射頻能量較高，一般濺射陶瓷靶材。中頻兩者之間，濺射靶材也為金屬靶材。
3.金屬靶材濺射過程中，具有濺射速率和沉積速率。濺射速率是靶材原子被濺射逸出的情況，而沉積在基體上的情況為沉積速率，兩者在濺射氣壓等外界環境不同的情況下，並不成正比。但是需要固定工藝下的長時間計算可以確定鍍膜時間的。（但是這個時間一般按照濺射完成後膜層的厚度測量來的更加准確）
4.在金屬靶材濺射過程中，如果想達到氧化亞鋅的理想值，比較難，需要精確控制濺射產額和氧氣流量。一般濺射物質為氬氣（價格便宜，濺射產額較高）。主要為控制過程，國內的質量流量計一般都比較粗，建議用壓電陶瓷閥，德國的sus04。另一個方案是射頻濺射氧化亞鋅陶瓷靶材，這個容易控制濺射後沉積膜層的兩元素的比值。但是需要靶材符合兩元素的比之條件，另外，在射頻濺射過程中，需要嚴格控制靶材，陶瓷靶濺射過程中，容易斷裂。還有就是射頻的危害性較大。
以上為泛泛而談。如果不通，精確討論是免不了的。
❻ 磁控濺射靶材現在在向什麼方向發展
濺射靶材向大尺寸、高純度化發展
高純金屬濺射靶材主要應用在晶圓製造和先進封裝過程,以晶元製造為例,我們可以看到從一個矽片變成一個晶元需要經歷7大生產過程,分別是擴散(ThermalProcess),光刻(Photo-lithography),刻蝕(Etch)、離子注入(IonImplant),薄膜生長(DielectricDeposition)、化學機械拋光(CMP),金屬化(Metalization),每個環節需要用到的設備,材料和工藝一一對應.濺射靶材就是被用在"金屬化"的過程中,通過薄膜沉積設備使用高能的粒子轟擊靶材然後在矽片上形成特定功能的金屬層,例如導電層,阻擋層等.
濺射靶材的技術發展趨勢與下游應用領域的技術革新息息相關,隨著應用市場在薄膜產品或元件上的技術進步,濺射靶材也需要隨之變化.
在下游應用領域中,半導體產業對濺射靶材和濺射薄膜的品質要求最高,隨著更大尺寸的硅晶圓片製造出來,相應地要求濺射靶材也朝著大尺寸方向發展,同時也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求.
濺射薄膜的純度與濺射靶材的純度密切相關,為了滿足半導體更高精度、更細小微米工藝的需求,所需要的濺射靶材純度不斷攀升,甚至達到99.9999%(6N)純度以上.
靶材作為重點鼓勵發展的戰略性新興產業,並出台產業政策,"十三五"提出,到2020年重大關鍵材料自給率達到70%以上,初步實現我國從材料大國向材料強國的戰略轉變.目前我國企業在靶材領域已陸續取得突破,在現在的經濟背景下,國產靶材必將取得長足發展.
❼ 哪些股票是稀缺科技股
稀缺的科技股應該還是有不少的，我知道的至少有兩個。
一個是江豐電子，國內唯一一個做高純度濺射靶材的。這玩意是做晶元必備的原材料。但是因為國內生產晶元的能力還不算出色，內需完全還沒打開。該企業主要客戶是國際客戶，排第一的是日本的材料龍頭三菱化學，第二個是為蘋果和華為做手機晶元的台積電，第三個才是國內晶元製造老大中芯國際。PS中芯國際是香港上市的公司，也屬於稀缺科技股，是國內晶元製造業老大。
還有一個我認為合格的是科大訊飛，科研實力非常出色，在語音識別分析領域國際領先。2017年6項技術獲得全球科技比賽的第一名。是人工智慧領域國內妥妥的龍頭股。
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❽ 什麼是濺射靶材
磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統把電子發射並聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。
濺射靶材主要應用於電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏 、激光存儲器、電子控制器件等，亦可應用於玻璃鍍膜領域，還可以應用於耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。
(8)濺射靶材股票行情擴展閱讀：
注意事項：
保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學雜質含量超標經常是由於不潔凈的濺射室、濺射槍和靶材引起的。
為保持鍍膜的成分特性，濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔並乾燥，濺鍍腔內裝入基材後便需將空氣抽出，達到工藝所要求的真空度。
❾ 靶材 濺射靶材區別
靶材有電弧靶材、濺射靶材、蒸鍍靶材。。。。