A. 2022年荷蘭ASML公司賣出62台光刻機，中國買走多少設備
荷蘭的ASML是目前全球最頂尖的光刻機提供商，尤其是在高端光刻機領域，幾乎占據了全球100%份額。
一、 最近幾年，ASML銷售業績增速非常快。
因為在高端光刻機擁有絕對的優勢，所以asml的光刻機一直供不應求，最近2年時間雖然受到疫情的影響，但因為全球晶元普遍供不應求，所以ASML的光刻機也供不應求，因此asml的業績也有了快速的增長。2021財年，ASML營業收入為186.11億歐元，同比上漲33.14%；歸屬於母公司普通股股東凈利潤為58.83億歐元，同比增長更是高達65.55%；不過進入2022年之後，asml業績貌似有所下降，從第一季度的財報來看，其營收只有39.6億美元，同比下降24.57%，利潤更是只有7.8億美元，同比下降51.36%。
沒有EUV光刻機做後盾，想要生產7納米以上的晶元基本上不可能，目前一些中低端光刻機最多隻能用於生產14納米的晶元，就算通過多重曝光之後，最多也只能生產10納米左右的光刻機。雖然中芯國際通過技術工藝上的改進，實現了N+1、N+2工藝，生產出來的芯跟7納米比較接近，但跟目前世界上最頂尖的5納米，甚至3納米晶元相比，仍然有很大的差距。所以想要解決我國晶元問題，光靠進口光刻機是行不通的，西方國家永遠不可能把最先進的設備賣給我們，想要縮小我國晶元製造實力跟世界頂尖水平的差距，還得靠自力更生，打鐵還需自身硬。
B. 荷蘭股票
貨幣：Euro(EUR)歐元
主要指數：荷蘭阿姆斯特丹AEX指數(AEX) – 依據阿姆斯特丹證交所上市的主要荷蘭股票所編制的市值加權算術平均指數，成分股25檔
證交所網站：www.aex.nl
交易時間：9:00am – 5:30pm
市場權重：MSCI世界指數1.6%；MSCI歐洲指數4.9%
主要類股：金融股佔40%，其餘主要為能源、原物料類股
主要企業：荷蘭皇家殼牌石油、荷蘭國際集團、荷蘭銀行
外幣債信評等：穆迪 – Aaa；S&P – AAA
成分股：
Aegon 壽險
Ahold 食品零售批發商
Akzo Nobel 化學
ArcelorMittal 鋼鐵
ASML 半導體
Corio 不動產
DSM 化學
Fortis 銀行
Heineken (海尼根) 釀酒
ING Group 壽險
Fugro 油品設備與服務
KPN 電信
Philips 消費性電子
Randstad Holding 商業訓練與職業介紹
Reed Elsevier 出版
Royal Dutch Shell 油品與天然氣
SBM Offshore 油品設備與服務
TNT 運輸
TomTom 電信設備
Unil-Rodamco 不動產信託
Unilever (聯合利華) 民生用品
Wolters Kluwer 出版
Ten Cate(紡織)
OPG(葯商)
Pharming(生物科技)
Smit International(海運)
點這里可以看到她的指數曲線：http://stockcharts.com/h-sc/ui?s=$AEX&p=D&yr=0&mn=6&dy=0&id=p71316421307
或者：http://gb.stockq.org/
C. 為什麼是阿斯麥
2020 全年，ASML 銷售額139.8 億歐元，中國大陸市場超過美國市場成為第三大市場。但是，，中國大陸獲得的光刻系統中，並沒有最先進的EUV（極紫外光）光刻機，而是DUV（深紫外光）光刻機。
阿斯麥生產的極紫外（EUV）光刻機，每台賣到令人咋舌的1.2億歐元，而且全球只此一家。
EUV光刻機先後經歷了22年的馬拉松式研發，耗資超過200億歐元。
1983年，ASM與飛利浦宣布將創立研製光刻設備的合資公司，這家合資公司就是ASML。
1988年，ASM從ASML撤資，由飛利浦承擔ASM在合資企業中的股份和債務。
1995年3月，ASML上市，1996年初，ASML實現財務獨立。
實際上，ASML上市後繼續依靠飛利浦注資以及政府補貼，直到2007年之後才真正獲得市場優勢地位。荷蘭光刻機的崛起，保守地說耗時也近30年。
從ASML 的股東構成看，既有資本國際集團、貝萊德集團等投資管理企業，也有IBM、三星、海力士、台積電等客戶。可以說，大半個半導體行業，都是ASML 的合作夥伴，從而形成了龐大的利益集團。
所以，想要在光刻機領域進行追趕，怎麼樣的投入才能彌補30年的時間呢
D. ASML是什麼意思
1、荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconctor Material Lithography，目前該全稱已經不作為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國台灣）。
2、光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
(4)asml股票價格歐元擴展閱讀
光刻機工作原理
在加工晶元的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。
一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的晶元可以繼續塗膠、曝光。越復雜的晶元，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。
E. asml是什麼車
應該不是車，荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconctor Material Lithography，該全稱已經不作為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥爾（中國大陸）、艾司摩爾（中國台灣）。
這是一家總部設在荷蘭埃因霍芬（Eindhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。總部位於荷蘭埃因霍芬（Eindhoven），歐洲人均科研經費排名第二的高科技公司。2010年，其全球凈銷售收入超過45億歐元。2011年，賣出222套機器 [1] ，全球凈銷售收入56.51億歐元 [1] ，凈利潤14.67億歐元。 [1]
ASML在歐洲、亞洲及美國的50多個地區擁有9245名員工 [1] ，其中固定員工7184 [1] （歐洲4202 [1] ，亞洲1538 [1] ， 美國1444 [1] ），男女比例為9：1 [1] 。截止2011年，全球市場佔有率75%。
F. 真心求教ASML情況，非行
ASML排名第二。 2007財政年銷售收入為56億美元（38億歐元），增長了5.9%。同期凈收入增長了10.1%，達到了10億美元。凈收益占銷售收入的18.1%，而在2006年為17.4%。
G. ASML是什麼意思
ASML (全稱: Advanced Semiconctor Material Lithography,目前該全稱己不做為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，是總部設在荷蘭Veldhoven的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。2006年，其全球凈銷售收入超過35億歐元。ASML在歐洲、亞洲及美國的50多個地區擁有6000多名員工（其中歐洲約3500，亞洲約1000， 美國約1500）。在2007年6月，VLSI公布的全球最佳晶元製造設備供應商榜上，ASML排名第二。2007財政年銷售收入為56億美元（38億歐元），增長了5.9%。同期凈收入增長了10.1%，達到了10億美元。凈收益占銷售收入的18.1%，而在2006年為17.4%。 51xunhui回答
H. 重新審視EUV光刻技術
擁有超過100,000個組件，這樣的EUV光刻系統是有史以來最復雜的機器之一。它由連續生產的最強大的激光系統泵送。總重量為180噸，耗電量超過1兆瓦，單台EUV光刻機的售價高達1.2億美元。
在EUV光刻技術之前，DUV大行其道。然而隨著工藝技術的發展，大型晶圓代工廠已經迫不及待地要調到更先進製程。基於包括Trumpf（德國Ditzingen），Zeiss（德國Oberkochen）和ASML（荷蘭Veldhoven ）等高 科技 公司之間的獨特聯盟，EUV光科主要技術問題才得以解決。
為何選擇EUV？
極紫外（有時也稱為XUV）表示波長在124和10nm之間的軟X射線或10eV和124eV之間的光子能量。
到目前為止，晶元製造商已經使用紫外（激光）光將復雜的圖案投射到塗有光致抗蝕劑的硅晶片上。在類似於舊紙張照片的開發的過程中，這些圖案被開發並成為一層內的導電或隔離結構。重復該過程，直到形成諸如微處理器的集成電路的復雜系統完成。
這種光刻系統的發展受經濟驅動：需要更多的計算能力和存儲容量，同時必須降低成本和功耗。這種發展可以用一個簡單的規則來描述，這個規則被稱為摩爾定律，它說密集集成電路中的晶體管數量大約每兩年增加一倍。
一個主要的限制來自光學定律。德國物理學家恩斯特·阿貝發現顯微鏡d的解析度（大致）限於照明中使用的光的波長λ：
d = λ/（n sin（α））（1）
其中n是透鏡和物體之間介質的折射率，α是物鏡光錐的半形。對於光刻，用數值孔徑（NA）代替n sin（α）並在公式中加入因子k（因為光刻解析度可以用照明技巧強烈調整），最小可行結構或臨界尺寸（CD）是：
CD = kλ / NA（2）
該公式控制著所有光刻成像過程，這使得波長成為如此重要的參數變得明顯。因此，工程師們一直在尋找波長越來越短的光源，以生產出更小的特徵。從紫外汞蒸汽燈開始，他們轉向波長為193納米的準分子激光器。英特爾在2003年5月宣布，它將下一步採用157納米準分子激光器，而不是採用波長為13.5納米的EUV，因此光刻行業獲得了驚喜。光學材料的問題被視為主要障礙，EUV似乎只是一些發展步驟。
當時據報道，英特爾研究員兼公司光刻資本設備運營總監彼得西爾弗曼提出了一個問題路線圖顯示2009年將為32納米節點部署EUV。事實證明這是過於樂觀了，人們不得不想方設法利用193納米光源通過沉浸式光刻和復雜的照明技巧等技術來實現更小的特徵。
用於工業的EUV光源
EUV光刻必須解決許多問題。首先，需要強大的光源。在21世紀初期，基於放電等離子體的光源（如 Xtreme Technologies公司吹捧）似乎最有利，但不久之後激光產生的等離子體源顯示它們最適合放大。
最後，總部位於聖地亞哥的Cymer公司憑借使用CO 2激光器從30微米錫滴產生EUV輻射的系統贏得了比賽。雖然他們在2007年推出了一個相當不穩定的30 W光源，但在2014年他們首次展示了如何達到250 W，這個數字被認為是大批量生產的突破。提高EUV轉換過程的效率是一項很好的應用研究，畢竟使EUV光刻成為可行。為了加快進度（並確保其唯一供應商），ASML於2012年收購了Cymer。
為商業可行性提供足夠的EUV輻射的最終解決方案，是給人留下深刻印象的機器。該機器基於串聯生產中最強大的激光器：40 kW CO 2激光器。整個系統需要1兆瓦的電源。由於只有200 W功率的微小部分用於處理晶圓，因此冷卻是一個主要問題。
該技術的唯一供應商是德國Ditzingen的TRUMPF。TRUMPF老闆兼首席技術官Peter Leibinger非常清楚他的公司的角色：「如果我們失敗，摩爾定律將停止。當然，世界並不依賴於TRUMPF，但如果沒有TRUMPF，晶元行業就可能無法繼續延續摩爾定律，「他在2017年接受采訪時表示。
典型CO 2TRUMPF的激光器可以提供幾千瓦的連續波（CW）輻射。這適合切割鋼材。對於EUV，TRUMPF開發了一種激光器，可以50 kHz的重復頻率產生40 kW的脈沖輻射。具有兩個播種機和四個放大級的激光器非常大，必須放置在EUV機器下方的單獨地板上。
為了跟上市場需求，TRUMPF在一個全新的工廠投入了大量資金，為這些激光器提供了10個生產區。通過10周時間將它們組合在一起，該公司現在每年可以容納50個系統。目前已經有44個系統在實地，預計2019年還將有30個系統出貨。
該機器具有玻璃心臟
雖然泵浦激光器是一種真正獨特的機器，但EUV光刻系統中的光學器件同樣具有挑戰性。首先，必須用巨大的鏡子收集來自微小錫滴的等離子體輻射。EUV收集器的直徑為650 mm，收集立體角為5 sr。13.5nm處的平均反射率高於40％。
根據SEMICON West會議報告，反射率隨時間線性下降：「他們目前的客戶安裝了NXE：3400B系統，Yen報告的每千兆脈沖降解率約為0.15％。ASML希望在相同功率（250 W）下將其降至低於0.1％/ GP。「換句話說，功率在90天內下降約50％。交換收集器大約需要一天時間，ASML打算用下一代NXE：3400將其減少到不到8小時。報告稱，最終目標是95％的可用性，這是目前所有DUV機器的用武之地。
一旦珍貴的EUV光離開收集器，它就會被一組超精密鏡子進一步形成和投射。最終表面的粗糙度為0.1nm以下更好，相當於氫原子的直徑。光學系統由另一位德國冠軍卡爾蔡司半導體製造技術公司（Zeiss SMT）製造，該公司是合作夥伴中第三家建立這些獨特高 科技 機器的公司。
注 - NXE：3400系統的解析度約為13 nm; 這指的是公式（2）和實際的柵極間距。這與晶元製造商經常討論的「節點」非常不同。最初，節點指的是晶體管的柵極長度。顯然，這可以根據工藝和製造商的不同而不同。然而，今天，節點僅涉及由晶元製造商開發的某個過程，並且不直接對應於光學器件的解析度。例如，晶元製造商使用類似的EUV機器參考其專有工藝，推出7納米或3納米節點。
EUV光刻技術的三駕馬車
雖然EUV光 科技 術整體涉及1000多家供應商，但核心技術由Trumpf，Zeiss和ASML製造。他們在EUV項目中開發了非常規的合作形式。來自Trumpf的Peter Leibinger將其稱為「幾乎合並的公司」，其開放式政策和廣泛的人員和技術交流。
Zeiss SMT與ASML有著悠久的 歷史 ，因為該公司於1983年為飛利浦生產了第一台光刻光學器件; 這項業務於1984年分拆出來並命名為ASML。
在EUV之前，Zeiss和ASML共同征服了光刻系統市場。2010年，他們已經擁有光刻系統約75％的市場份額。到目前為止，他們是工業級EUV系統的唯一供應商。為了促進這種關系，ASML在2016年11月以大約10億歐元的價格購買了Zeiss SMT 24.9％的股份。此外，ASML承諾支持Zeiss SMT六年的研發工作，投資2.2億歐元，加上一些5.4億歐元的投資支持。
由於Zeiss SMT在EUV上大量投資，所以這筆錢非常需要。該公司在德國Oberkochen附近建立了製造和計量大廳;目前，它正在完成下一代具有更高NA的EUV光學器件的准備工作。另外7億歐元的投資。這包括用於光學系統計量的卡車大小的高真空室。在這些腔室中測試的鏡面最大公差為0.5 nm，因此它們採用了業內有史以來最精確的對准和計量技術。
180噸工具的最終組裝
Zeiss SMT擁有一個巨大的高 科技 設施，但其規模最大的是阿斯姆公司的Veldhoven工廠的製造大廳。2018年，Zeiss SM的員工增長了21％，目前擁有超過800名博士和超過7500名工程師，總人數為23,000人。
在製造大廳中，EUV步進機器已經完成。目前的頂級車型NXE：3400B重180噸，需要20輛卡車或3輛滿載的波音747發貨。價格是1.2億美元。它可以每小時處理125片晶圓，解析度低至13納米。
在2019年下半年，宣布升級的NXE：3400C的裝運。它將採用更高透射率的光學元件，模塊化容器，可顯著提高維修保養方便性，以及更快的光罩和晶圓處理器，以支持更高的生產率。這些器件每小時可實現170個晶圓吞吐量。
EUV之後是什麼？
到目前為止，EUV光學系統已達到0.33的NA。下一代（ASML宣布該機器為NXE Next）的NA為0.55，解析度小於8 nm。它包含更大的光學元件，而這也是Zeiss SMT公司的努力方向，並且該公司今年已經開始生產。
作為這些共同努力的結果，顯然該技術被驅動到其物理極限，從而實現迄今為止無法想像的規范。例如，光刻系統內的晶片被保持在特殊的玻璃板（所謂的晶片夾具）上。它們以高達3g的加速度移動，將晶圓保持在精確到一納米的位置。同時，晶片由EUV光照射，熱負荷為30kW / m 2，而不會失去其精確位置。
盡管仍在討論許多技術問題，但市場似乎非常有信心EUV光刻技術將在可預見的未來為半導體產業帶來實質性利益。
但在高NA EUV之後會發生什麼？到目前為止，似乎還沒有認真的答案。一方面，一些研究小組正在准備更短的波長。德國弗勞恩霍夫協會的兩個機構於2016年完成了一項關於「超越EUV」的研究項目。他們研究反射塗層（IOF）和等離子體源（ILT）的6.7 nm波長。瑞士集團在2015年總結了光刻膠研究。諸如沖壓或電子束光刻的納米圖案的替代方法正在發展。2017年的「模式路線圖」試圖討論其進一步發展。
目前，ASML及其盟友在他們的高 科技 大製造廳中建造並展示了，這個時代最大和最先進的技術系統。但是，如果從遠處看這一發展，似乎光刻技術的復雜性已達到其可行的最大值。未來EUV光刻技術要得到進一步的實質性進展，將需要完全不同的方法來滿足增加的數據存儲和處理要求。
I. asml是哪個國家的
asml是荷蘭的。
荷蘭ASML公司 (全稱： Advanced Semiconctor Material Lithography，目前該全稱已經不作為公司標識使用，公司的注冊標識為ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥爾（中國大陸）、艾司摩爾（中國台灣）。
這是一家總部設在荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。
(9)asml股票價格歐元擴展閱讀：
公司簡介
總部位於荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven），歐洲人均科研經費排名第二的高科技公司。2010年，其全球凈銷售收入超過45億歐元。2011年，賣出222套機器 ，全球凈銷售收入56.51億歐元 ，凈利潤14.67億歐元。
ASML在歐洲、亞洲及美國的50多個地區擁有9245名員工 ，其中固定員工7184 （歐洲4202 ，亞洲1538 ， 美國1444 ），男女比例為9：1 。截止2011年，全球市場佔有率75%。
中國地區總部地址：上海市張江鎮金科路2889號長泰廣場A座9樓
J. asml是哪個國家的
荷蘭。
阿斯麥（ASML Holding N.V.）是在荷蘭費爾德霍芬的半導體設備製造商。公司同時在歐洲和美國NASDAQ上市。有從業員工28,000多名。
阿斯麥公司的主要產品是用於生產大規模集成電路的核心設備光刻機。在世界同類產品中有90％的市佔率，在14納米製程以下有100％的市佔率。
總部位於荷蘭埃因霍芬（Eindhoven），歐洲人均科研經費排名第二的高科技公司。
ASML在歐洲、亞洲及美國的50多個地區擁有9245名員工，其中固定員工7184，男女比例為9：1。
據Bloomberg數據，2018年全球五大半導體設備製造商分別為應用材料（AMAT）、阿斯麥（ASML）、東京威力科創（TEL）、科林研發（Lam Research）、科磊（KLA）。
現在市場上提供量產商用的光刻機廠商依照排名，首位阿斯麥、第二名尼康（Nikon）、以及佳能（Canon）共三家，根據2007年的統計數據，在中高端光刻機市場，阿斯麥公司約有60%的市場佔有率。
而最高端市場（immersion），阿斯麥公司目前約有90%的市場佔有率，在14納米節點以下更獲取100%市佔率，同業競爭對手已無力追趕。
TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾、三星、海力士、台積電、聯電、格羅方德及其它台灣十二英寸半導體廠。
除了目前致力於開發的TWINSCAN平台外，阿斯麥公司還在積極與IBM等半導體公司合作，繼續研發光刻技術，用於關鍵尺度在22納米甚至更低的集成電路製造。
歷史發展
2008年，阿斯麥公司已超過日商東京威力科創成為世界第二大半導體設備商。
2010年，以銷售額計算阿斯麥公司高端光刻機市佔率已達到將近90%。
2011年，阿斯麥公司已超過美商應用材料公司(Applied Materials, Inc)成為世界第一大半導體設備商。
2012年7月10日英特爾斥資41億美元收購荷蘭晶元設備製造商阿斯麥公司的15%股權，另出資10億美元，支持阿斯麥公司加快開發成本高昂的晶元製造科技。
2012年10月17日ASML Holding NV（ASML）與Cymer (CYMI)宣布簽訂合並協議，阿斯麥公司將以19.5億歐元收購Cymer所有在外流通股票，收購Cymer目的在於加速開發Extreme Ultraviolet半導體蝕微影技術。